分子篩進行加熱所需的蒸汽壓力、流量等要達到工藝設(shè)計要求。加熱再生過程可通過再生溫度曲線來判斷。

卸壓階段，由于壓力下降，分子篩的吸附容量減小，原來被吸附的水分和二氧化碳分子有部分解吸出來，溫度下降。

加熱階段，污氮氣進口溫度迅速升高，但是出口溫度開始還會繼續(xù)下降，然后才逐漸升高。因為此時的熱量首先消耗在解吸所需的熱量上，將床層的中上部分子篩解吸，并將熱量貯存在床層中。這一階段對再生效果的影響因素是：氮氣流量、加熱時間和再生溫度。主要是監(jiān)控污氮進口溫度。

冷吹階段，污氮出口溫度會繼續(xù)升高。在該階段之初，是利用貯存在分子篩床層內(nèi)的熱量對下部的分子篩繼續(xù)進行解吸，直至冷吹曲線的較高占--“冷吹峰值”該溫度是整個床層再生是否徹底的標志。因為在出口部位較不容易再生徹底。如果該處的溫度能達到要求，內(nèi)部的溫度肯定要超過此溫度，表示內(nèi)部均已再生完畢。因此，在冷吹階段主要是監(jiān)視出口的峰值溫度。

迪爾空分在設(shè)備制作工藝設(shè)計有嚴格要求，相關(guān)系統(tǒng)都呈現(xiàn)技術(shù)規(guī)范。