空分設備吸附器內(nèi)裝填的氧化鋁和分子篩的吸附容量有限，吸附飽和后需要進行解析再生操作。為了持續(xù)的運行，設置了兩個吸附器，一個處于吸附狀態(tài)另一個則處于再生狀態(tài)。

根據(jù)吸附劑低溫高壓吸附、高溫低壓解析的特性，將吸附飽和的吸附器泄壓吹除，然后利用蒸汽加熱器或者電加熱器（特殊再生）加熱從低壓塔復熱的低壓污氮至一定溫度對床層進行加熱解析再生，污氮加熱后的溫度足夠高到解析床層內(nèi)被吸附的水分和二氧化碳。加熱完成后再利用復熱的污氮對床層進行冷吹，帶走床層內(nèi)熱量。冷吹流量和時間需要保證冷吹完成時床層內(nèi)的殘留熱量在一定范圍內(nèi)，否則再生完的吸附器投用后出口溫度會波動對后續(xù)工段造成影響。再生完成的吸附器均壓后與當前運行的吸附器并行一段時間后投入吸附。

迪爾空分設備生產(chǎn)技術(shù)成熟規(guī)范，技術(shù)嚴格把關(guān)，設備安全優(yōu)質(zhì)，保證生產(chǎn)安全運維、穩(wěn)定高效運行。