高純氧的純度有何要求,怎樣制取?
??? 大規(guī)模集成電路,電視攝像管,激光通訊光導(dǎo)纖維以及分析測試等高科技領(lǐng)域,要求氧的純度達(dá)到99.995%,甚至要求氧的純度達(dá)到99.99999%。我國高純氧的國家標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定:氧純度不低于99.999%,其中氬含量不大于2×10-6,氮含量不大于5×10-6,甲烷和二氧化碳的含量不大于1×10-6,水含量不大于2×10-6(全部為體積分?jǐn)?shù))。
高純度氧的用量不大,通常采用在大中型空分塔附設(shè)高純氧塔方法來制取。高純氧可以液氧為原料和氣氧為原料。
1)以液氧為原料。從主塔主冷中引出液氧,其液氧純度為99.5%~99.7%,其他為氮、氬、氪、氙及碳?xì)浠衔?。液氧為高純氧塔的回流液。塔底的冷凝蒸發(fā)器,以主塔的主冷凝蒸發(fā)器頂部所引出的中壓氮作熱源,從塔底的冷凝蒸發(fā)器的低壓側(cè),可獲得高純氣氧或液氧,其含量可達(dá)到99.995%,再進(jìn)入氧終端純化器,用分子篩吸附清除一氧化碳、甲烷、二氧化碳及其他微量雜質(zhì),獲得99.999%以上的高純氧氣產(chǎn)品,較后采用膜式壓縮機(jī)充入經(jīng)過處理的鋼瓶。
2)以氣氧作原料。有兩種流程:一種流程是采用兩個(gè)附加高純氧塔。從主塔主冷引出的99.5%的氣氧,進(jìn)入精餾塔的下部,塔頂設(shè)有冷凝器,以主塔來的液空作為冷源,將上升蒸氣冷凝,作為回流液。在塔頂引出氣體(已不含比氧沸點(diǎn)高的雜質(zhì))進(jìn)入第二精餾塔的中部。第二精餾塔設(shè)上、下冷凝器。上部冷凝器以主冷為冷源;下部冷凝器以下塔富氧蒸氣作為冷凝液,通過精餾,去除比氧沸點(diǎn)低的氬、氮等雜質(zhì)。塔頂引出廢氣,塔底獲得高純氣氧,較后經(jīng)膜式壓縮機(jī)壓縮充瓶。
第二種流程是采用預(yù)凈化設(shè)備和一個(gè)高純氧塔。從主冷塔引出99.5%~99.6%的氣氧進(jìn)入催化反應(yīng)器,用常溫催化法清除碳?xì)浠衔?。催化劑為鈀或鉑,反應(yīng)溫度為450℃;如催化劑為銀_鋁,則反應(yīng)溫度為550℃。反應(yīng)后生成的二氧化碳和水,再用5A分子篩來清除。而后經(jīng)熱交換器冷卻,進(jìn)入純氧塔底部。塔頂冷凝器以外供液氮作為冷源。在塔底冷凝器中,將含有氦、氙、碳?xì)浠衔锏囊貉跖欧?;下冷凝器頂部引出氖、氦、氫等雜質(zhì);上冷凝器頂部排除含氮、氬的氣氧。在純氧塔偏底部塔板上引出高純度氣氧。
以液氧和以氣氧制取高純度氧的兩種方法對(duì)比可見:以液氧為原料制取高純氧的工藝流程簡單易行。另外,采用液氧制取99.999%高純氧時(shí),只采用單臺(tái)高純塔,需另設(shè)置終端純化器。
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